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    • 电子行业应用反渗透纯净水设备优势解析

        随着电子工业的发展对纯水提出了越来越高的要求。例如,制作16K位DRAM允许水中TOC(总有机碳)为500ppb、金属离子为1ppb、≥0.2μm的颗粒为100个/毫升;而制作16M位DRAM时,则要求TOC<5ppb、金属离子<0.2ppb、水中≥0.1μm颗粒数为0.6个/升。

        可以说在电子级超纯水制备系统中汇集了当前水处理技术先进的工艺和设备,如超滤、微滤、反渗透、膜脱气、电去离子(EDI)等,其中反渗透装置是整个纯水、反渗透纯净水设备系统工程中一关键的设备.它能有效地去除原水中97%以上的溶解性无机物质、99%以上的相对分子质量大于300的有机物、99%以上的包括细菌在内的各种微粒和95%以上的二氯化硅.

        纯净水净化设备工艺在纯水、纯净水净化设备工程中的应用,不但能提高了产水品质,降低生产成本,而且防止环境污染,有力地推进了电子工业的进步,同时也促进了纯水、超纯水制造技术的发展.

        在我国RO应用于电子工业水处理的报道,可追溯到1981年,ro反渗透净水设备技术就己成功应用于大规模集成电路超纯水制备。此后,不断出现RO制取超纯水工艺流程研究和更大规模超纯水制备的报道。

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