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成都芯片生产废水处理有哪些主要系统?

2020-03-19

  集成电路芯片制造生产工艺复杂,包括硅片清洗、化学气相沉积、刻蚀等工序反复交叉,生产中使用了大量的化学试剂如HF、H2SO4、NH3・H2O等。对此,我们可采用成都芯片生产废水处理来解决问题。今天,小编就给大家介绍下成都芯片生产废水处理有哪些主要系统吧。

  含氨废水处理系统

  含氨废水有两部分,一部分是浓氨氮废水,主要含氨氮和双氧水,氨氮浓度达400~1200mg/L;另一部分是稀氨废水,主要含氟化氨,氨氮浓度低于100mg/L。

  含氟废水处理系统

  工艺中采用CaCl2溶液代替传统去氟采用的消石灰,可减少氟化钙污泥量、原料用量和碱液,同时,可避免粉态消石灰的逸散,防止管道堵塞,易于控制投加量,确保系统的稳定高效运行。

  CMP研磨废水处理系统

  研磨废水处理与含氟废水处理很相近,若从节省投资的角度考虑,可以采用同一系统同时处理含氟和CMP研磨两股废水,否则,将增加额外的投资。

  上述就是成都芯片生产废水处理的系统,希望对大家有所帮助。

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