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成都半导体超纯水设备的工艺步骤是什么?

2019-11-04

   成都半导体超纯水设备结合相关技术可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质。输出电阻可达18兆欧以上,完全满足半导体要求。工业需水量。工业需水量。那么,成都半导体超纯水设备的工艺步骤是什么?

  成都半导体超纯水设备的工艺步骤

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象。

  2、预处理-级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。

  3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。

  4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象。

  以上就是成都半导体超纯水设备的工艺步骤,希望对大家有所帮助。

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