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半导体生产用超纯水设备

2015-08-17

   一、半导体生产用超纯水设备概述

  半导体是一种介于导体于绝缘体之间的材料,半导体在生产和加工方面为了保证产品的质量,需要使用具有一定标准的用水水质进行生产,半导体生产用超纯水设备采用先进的超纯水技术,可以有效去除原水中全部的离子杂质,出水水质满足半导体生产用水水质。

  二、半导体生产用超纯水设备工艺流程

  1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。

  2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(新工艺)。

  三、半导体生产用超纯水设备工作原理

  电去离子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜、阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离子可透过阴膜)。淡室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留。水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡水。而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化、提纯、浓缩或精制的目的。

超纯水设备

  四、半导体生产用超纯水设备优点

  无需酸碱再生:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生,而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作,保护了环境。

  连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化,使操作过程变得复杂,而EDI的产水过程是稳定的连续的,产水水质是恒定的,没有复杂的操作程序,操作大大简便化。

  降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比,有较不的体积,它采用积木式结构,可依据场地的高度和灵活地构造。模块化的设计,使EDI在生产工作时能方便维护。

  以上是半导体生产用超纯水设备的简单介绍。莱特莱德成都水处理设备公司是一家专业从事水处理设备研发,生产及销售的高新环保企业。公司拥有一批专业从事水处理项目设计的工程师与设备制造、安装、调试的高素质技术人员。公司拥有完善的生产、销售和售后服务系统,对每一台设备进行严格检测,确保每一台出厂的设备都是合格产品。

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